铝氧化着色的工艺流程：1、上架;水洗;低温抛光
2、磨砂料及磨砂电泳料氧化：
3、着色料及着色电泳料氧化
二、上料：
①
铝氧化着色上料前应将吊杆接触面打磨干净，并按标准支数上料，其计算公式：上料支数=标准电流标准电流密度单支型材面积
②上架支数的考虑原则：
a、硅机容量利用率不大于95%；
b、电流密度取1.0—1.2A/dm;
c、型材形状和两支型材之间留必要的间隙；
③氧化时间的计算：氧化时间（t）= 膜厚 K·电流密度 K 为电解常数，取0.26—0.32，t单位为分钟；
④上排时必须按照《型材面积及上排支数表》规定的支数上架；
⑤为了便于排液和排气，上排捆扎时应倾斜，倾斜度5°为宜；
⑥两端可超出导电杆10—20mm，最多不得大于50mm。
三、低温抛光工艺
①
铝氧化着色低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸25—30g/l，最低≥15 g/l；
②抛光槽温20-30℃不得低于20℃，抛光时间90—200s；
③提架倾斜，滴净残液后，迅速放入清水槽中漂洗，经两道水洗后迅速放入氧化槽氧化，在水槽中停留时间不应大于3分钟；
④低温抛光材料在抛光前不得进行其它方式的处理，也不能将其它槽液带入抛光槽中。
四、除油工艺；
①
铝氧化着色在室温酸液中进行，时间2—4分钟，H2SO4浓度140-160 g/l；
②提架倾斜滴净残液后，放入清水槽中清洗1-2分钟。
五、磨砂（酸蚀）工艺
①除油后在清水槽清洗再进入酸蚀槽；
②工艺参数：NH4HF4浓度30-35 g/l，温度35-40℃，PH值2.8-3.2，酸蚀时间3-5分钟；
③酸蚀结束后经两道水洗再进入碱蚀槽。
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